K&F Concept Nano-X PRO MC UV filter 49 mm za Leica Q3/Q2

UV-filter K&F Concept 49 mm serije MC Nano-X PRO je vrhunski zaščitni filter za objektiv, zasnovan posebej za fotoaparate Leica Q3 43, Q3 28, Q3 in Q2. Ta ultra tanek UV-filter, ki se ponaša z izjemno prozornim optičnim steklom, elegantnim okvirjem iz medenine, obdelanim s CNC-tehnologijo, in naprednimi 36-slojnimi nano-premazi, zmanjšuje odseve, bleščanje in podvajanje slike, hkrati pa zagotavlja vrhunsko zaščito objektiva, ne da bi to vplivalo na kakovost slike, združljivost sončnika ali zmogljivost pri makro fotografiranju.

Z UV-filtrom K&F Concept 49 mm MC iz serije Nano-X PRO zaščitite objektiv svojega fotoaparata Leica in hkrati ohranite izjemno kakovost slike. Ta vrhunski večslojni UV-filter, zasnovan posebej za fotoaparate Leica Q3 43, Q3 28, Q3 in Q2, združuje napredne optične lastnosti z izpopolnjenim dizajnom okvirja iz medenine, ki črpa navdih iz klasične estetike Leice.

Filter je izdelan iz optičnega stekla visoke ločljivosti in s tehnologijo natančnega poliranja ohranja izjemno ostrino in jasnost, s čimer v celoti podpira zmogljivosti visoke ločljivosti Leicinih 60-megapikselnih senzorjev. Ultra tanek medeninast okvir leži poravnan z objektivom, da prepreči vinjetiranje in motnje pri delovanju sončnikov ali makro načina, s čimer zagotavlja brezhibno združljivost med fotografiranjem.

Napreden 36-slojni nano premaz znatno zmanjša odseve na le 0,1 %, kar zmanjša pojav duhov in bleščanja v zahtevnih pogojih osvetlitve od zadaj, hkrati pa ohranja kontrast in zvestobo slike. Večslojni premaz zagotavlja tudi vodotesno, odporno proti praskam in olju zaščito, kar pomaga filtru vzdržati vsakodnevno uporabo, hkrati pa ostaja enostaven za čiščenje.

Za razliko od standardnih aluminijastih okvirjev, CNC-obdelan medeninast okvir ponuja večjo vzdržljivost, gladko navijanje in boljšo absorpcijo udarcev, hkrati pa zagotavlja vrhunski vintage videz, ki lepo dopolnjuje ohišja fotoaparatov Leica.

Ta UV-filter serije Nano-X PRO, zasnovan za fotografe, ki zahtevajo brezkompromisno optično kakovost in zanesljivo zaščito objektiva, zagotavlja profesionalno zmogljivost v elegantni in trpežni izvedbi.

Ključne lastnosti

• Namenjen fotoaparatom Leica Q3 43, Q3 28, Q3 in Q2
• Vrhunski zaščitni filter MCUV
• Ultra tanek medeninast okvir preprečuje vinjetiranje
• Ne moti uporabe sončnika ali makro načina
• Napredna tehnologija 36-slojnega nano premaza
• Izjemno nizka 0,1-odstotna odbojnost zmanjšuje bleščanje in podobe
• Optično steklo visoke ločljivosti za maksimalno ostrino
• Vodoodporna, odporna proti praskam in olju prevleka
• Natančna konstrukcija okvirja iz medenine, obdelana s CNC-tehnologijo
• Gladko navijanje in izboljšano blaženje udarcev
• Ohranja barvno natančnost brez barvnega odklona
• Optimiziran za visokoločljive senzorje Leica 60 MP