K&F 55MM,NANO-X series ultra-low reflection UV filter,Ultra clear lenses, waterproof, anti-scratch

Vrhunski UV-filter, namenjen fotografom, ki iščejo izjemno jasnost slike in zaščito svojih objektivov.

Značilnosti

• UV-filter z izjemno nizko stopnjo odbojnosti: K&F Concept uporablja tehnologijo titanovega premaza na UV-filterju z zelo nizko odbojnostjo, da zmanjša površinski odboj filtra na 0,1 %. To izboljša prenos svetlobe, učinkovito preprečuje bleščanje v ozadju in duhove ter zagotavlja brezhibno ostrino.
• Vrhunsko optično steklo: UV-filter Ultra-Low Reflection serije K&F Concept Nano-X je izdelan iz optičnega stekla HD za izjemno ostre slike, ki ohranjajo prave barve fotografij.
• Optimalna kakovost slike: UV-filter Ultra-Low Reflection ima prepustnost svetlobe ≥ 99,8 % in odbojnost ≤ 0,1 %, zato je primeren za snemanje videoposnetkov 4K/8K HD in fotografsko slikanje.
• Priporočeno za MRC: K&F Concept Nano-X Series uporablja 28-slojno tehnologijo večplastnih premazov. Zaradi tega zelenega nanopovlaka je filter odporen proti praskam, odbija vodo, olje in prah.
• Tanek okvir brez vinjetiranja: Tanek in lahek aluminijast okvir UV-filtra z debelino 3,3 mm zmanjšuje vpliv na svetlobo in učinkovito preprečuje temne kotičke pri širokokotnem fotografiranju.